ಆಣ್ವಿಕ ಕಿರಣದ ಎಪಿಟಾಕ್ಸಿ, ಅಥವಾ MBE, ಸ್ಫಟಿಕ ತಲಾಧಾರಗಳ ಮೇಲೆ ಉತ್ತಮ-ಗುಣಮಟ್ಟದ ಸ್ಫಟಿಕಗಳ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳನ್ನು ಬೆಳೆಯಲು ಒಂದು ಹೊಸ ತಂತ್ರವಾಗಿದೆ. ಅತಿ-ಹೆಚ್ಚಿನ ನಿರ್ವಾತ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ, ತಾಪನ ಸ್ಟೌವ್ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಎಲ್ಲಾ ರೀತಿಯ ಘಟಕಗಳೊಂದಿಗೆ ಸಜ್ಜುಗೊಂಡಿದೆ ಮತ್ತು ಉಗಿಯನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುತ್ತದೆ, ಕಿರಣದ ಪರಮಾಣು ಅಥವಾ ಆಣ್ವಿಕ ಕಿರಣವನ್ನು ಕೊಲಿಮೇಟ್ ಮಾಡಿದ ನಂತರ ರೂಪುಗೊಂಡ ರಂಧ್ರಗಳ ಮೂಲಕ, ಏಕ ಸ್ಫಟಿಕ ತಲಾಧಾರದ ಸೂಕ್ತ ತಾಪಮಾನಕ್ಕೆ ನೇರ ಇಂಜೆಕ್ಷನ್, ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ತಲಾಧಾರ ಸ್ಕ್ಯಾನಿಂಗ್‌ಗೆ ಆಣ್ವಿಕ ಕಿರಣವನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸುತ್ತದೆ, ಇದು ಸ್ಫಟಿಕ ಜೋಡಣೆ ಪದರಗಳಲ್ಲಿನ ಅಣುಗಳು ಅಥವಾ ಪರಮಾಣುಗಳನ್ನು ತಲಾಧಾರ "ಬೆಳವಣಿಗೆ" ಮೇಲೆ ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ರೂಪಿಸುವಂತೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.

MBE ಉಪಕರಣಗಳ ಸಾಮಾನ್ಯ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಗಾಗಿ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆ, ಕಡಿಮೆ ಒತ್ತಡ ಮತ್ತು ಅಲ್ಟ್ರಾ-ಕ್ಲೀನ್ ದ್ರವ ಸಾರಜನಕವನ್ನು ಉಪಕರಣದ ತಂಪಾಗಿಸುವ ಕೋಣೆಗೆ ನಿರಂತರವಾಗಿ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರವಾಗಿ ಸಾಗಿಸಬೇಕಾಗುತ್ತದೆ. ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ, ದ್ರವ ಸಾರಜನಕವನ್ನು ಒದಗಿಸುವ ಟ್ಯಾಂಕ್ 0.3MPa ಮತ್ತು 0.8MPa ನಡುವೆ ಔಟ್‌ಪುಟ್ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ. -196℃ ನಲ್ಲಿ ದ್ರವ ಸಾರಜನಕವು ಪೈಪ್‌ಲೈನ್ ಸಾಗಣೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಸುಲಭವಾಗಿ ಸಾರಜನಕವಾಗಿ ಆವಿಯಾಗುತ್ತದೆ. ಸುಮಾರು 1:700 ಅನಿಲ-ದ್ರವ ಅನುಪಾತವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ದ್ರವ ಸಾರಜನಕವನ್ನು ಪೈಪ್‌ಲೈನ್‌ನಲ್ಲಿ ಅನಿಲೀಕರಿಸಿದ ನಂತರ, ಅದು ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಮಾಣದ ದ್ರವ ಸಾರಜನಕ ಹರಿವಿನ ಜಾಗವನ್ನು ಆಕ್ರಮಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ದ್ರವ ಸಾರಜನಕ ಪೈಪ್‌ಲೈನ್‌ನ ಕೊನೆಯಲ್ಲಿ ಸಾಮಾನ್ಯ ಹರಿವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಇದರ ಜೊತೆಗೆ, ದ್ರವ ಸಾರಜನಕ ಸಂಗ್ರಹಣಾ ತೊಟ್ಟಿಯಲ್ಲಿ, ಸ್ವಚ್ಛಗೊಳಿಸದ ಶಿಲಾಖಂಡರಾಶಿಗಳಿರುವ ಸಾಧ್ಯತೆಯಿದೆ. ದ್ರವ ಸಾರಜನಕ ಪೈಪ್‌ಲೈನ್‌ನಲ್ಲಿ, ಆರ್ದ್ರ ಗಾಳಿಯ ಅಸ್ತಿತ್ವವು ಐಸ್ ಸ್ಲ್ಯಾಗ್ ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ. ಈ ಕಲ್ಮಶಗಳನ್ನು ಉಪಕರಣಗಳಿಗೆ ಹೊರಹಾಕಿದರೆ, ಅದು ಉಪಕರಣಗಳಿಗೆ ಅನಿರೀಕ್ಷಿತ ಹಾನಿಯನ್ನುಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ.

ಆದ್ದರಿಂದ, ಹೊರಾಂಗಣ ಶೇಖರಣಾ ತೊಟ್ಟಿಯಲ್ಲಿರುವ ದ್ರವ ಸಾರಜನಕವನ್ನು ಧೂಳು-ಮುಕ್ತ ಕಾರ್ಯಾಗಾರದಲ್ಲಿರುವ MBE ಉಪಕರಣಗಳಿಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ದಕ್ಷತೆ, ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಸ್ವಚ್ಛತೆಯೊಂದಿಗೆ ಸಾಗಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಒತ್ತಡ, ಸಾರಜನಕವಿಲ್ಲ, ಕಲ್ಮಶಗಳಿಲ್ಲ, 24 ಗಂಟೆಗಳ ನಿರಂತರ, ಅಂತಹ ಸಾರಿಗೆ ನಿಯಂತ್ರಣ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯು ಅರ್ಹ ಉತ್ಪನ್ನವಾಗಿದೆ.